Nguồn sáng Excimer VUV 172nm

Trong các ngành công nghiệp sản xuất tiên tiến như bán dẫn, màn hình hiển thị, quang học chính xác và vi điện tử, độ sạch bề mặt có thể ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng sản phẩm, sự ổn định của quy trình và năng suất sản xuất cuối cùng. Các phương pháp làm sạch ướt truyền thống thường dựa vào hóa chất và dung môi. Mặc dù chúng có thể loại bỏ chất bẩn hiệu quả, nhưng chúng cũng có thể để lại cặn hóa chất và tạo thêm các công đoạn làm sạch, rửa và sấy khô. Đối với các bộ phận nhạy cảm và có độ chính xác cao, các phương pháp làm sạch thông thường cũng có thể gây ra lo ngại về hư hỏng vật liệu. Ngày nay, một công nghệ xử lý bề mặt khô mới dựa trên... Ánh sáng excimer 172nm đang cung cấp cho các nhà sản xuất một giải pháp khác. Với bức xạ tia cực tím chân không năng lượng cao và đặc tính xử lý không tiếp xúc, công nghệ đèn Excimer 172nm có thể loại bỏ các chất gây ô nhiễm hữu cơ đồng thời kích hoạt bề mặt vật liệu, mang đến phương pháp xử lý bề mặt chính xác sạch hơn và hiệu quả hơn.Công nghệ đằng sau nó: Ánh sáng excimer 172nm làm sạch và kích hoạt bề mặt như thế nào?Bước sóng 172nm thuộc dải tia cực tím chân không (VUV) và cung cấp các photon năng lượng cao có khả năng khởi phát các phản ứng quang hóa mạnh mẽ. Khi bức xạ VUV 172nm chiếu vào các chất gây ô nhiễm hữu cơ trên bề mặt vật liệu, các photon năng lượng cao có thể phá vỡ các liên kết phân tử và phân hủy các hợp chất hữu cơ. Đồng thời, khi có mặt oxy, chiếu xạ VUV thúc đẩy sự hình thành các loại oxy hoạt tính, từ đó tiếp tục oxy hóa và phân hủy các chất hữu cơ còn sót lại.Điều này tạo ra sự kết hợp hiệu quả cao giữa quá trình quang phân và quang oxy hóa.Kết quả là một quy trình làm sạch khô không tiếp xúc, có thể loại bỏ các chất bẩn hữu cơ khỏi các bề mặt chính xác mà không cần dựa vào các chất tẩy rửa dạng lỏng thông thường. Làm sạch bằng phương pháp quang hóa: Loại bỏ các chất gây ô nhiễm hữu cơBức xạ năng lượng cao của đèn Excimer 172nm có thể phá vỡ các chuỗi hydrocarbon, cặn dầu, chất gây ô nhiễm hữu cơ và các tạp chất bề mặt khác.Các loại oxy hoạt tính sau đó tiếp tục oxy hóa các hợp chất bị phân hủy này, chuyển hóa các chất hữu cơ còn lại thành các chất đơn giản hơn như CO₂ và H₂O. Điều này làm cho công nghệ VUV 172nm đặc biệt phù hợp để loại bỏ các chất ô nhiễm hữu cơ siêu nhỏ trước các quy trình sản xuất quan trọng.Khác với phương pháp làm sạch cơ học, quy trình này không yêu cầu tiếp xúc vật lý trực tiếp với bề mặt cần làm sạch. So với phương pháp làm sạch ướt truyền thống, nó cũng có thể giảm sự phụ thuộc vào các chất tẩy rửa hóa học. Kích hoạt bề mặt: Cải thiện tính ưa nướcVệ sinh chỉ là một phần của quá trình. Phản ứng quang hóa được tạo ra bởi ánh sáng excimer 172nm cũng có thể làm thay đổi các đặc tính hóa học của bề mặt vật liệu. Đối với các vật liệu không phân cực, chiếu xạ VUV có thể phá vỡ các chuỗi phân tử hydrocarbon và tạo ra các nhóm ưa nước phân cực như nhóm hydroxyl (-OH) và nhóm carboxyl (-COOH). Điều này làm tăng năng lượng tự do bề mặt và cải thiện khả năng thấm ướt. Trong các ứng dụng thực tế, một bề mặt ban đầu kỵ nước có thể trở nên ưa nước hơn đáng kể sau khi xử lý ở bước sóng 172nm, tạo ra một giao diện tốt hơn cho các quá trình phủ, liên kết, in ấn và các quy trình khác tiếp theo.Kết quả quan sát được: Góc tiếp xúc của nước cho thấy sự hoạt hóa bề mặt.Góc tiếp xúc nước là một trong những cách trực quan nhất để đánh giá khả năng thấm ướt và tình trạng bề mặt. Trước khi xử lý, sự nhiễm bẩn hữu cơ hoặc năng lượng bề mặt thấp tự nhiên của một số vật liệu có thể khiến giọt nước giữ nguyên hình dạng tròn trên bề mặt, dẫn đến góc tiếp xúc tương đối lớn. Sau khi điều trị bằng Đèn Excimer 172nmNhờ đó, bề mặt có thể trở nên ưa nước hơn, cho phép giọt nước lan rộng trên bề mặt dễ dàng hơn. Thay vì giữ nguyên dạng giọt hình cầu, nước có thể tạo thành một lớp màng đồng nhất hơn trên bề mặt được xử lý. Sự thay đổi rõ rệt về góc tiếp xúc của nước này là một dấu hiệu trực quan cho thấy khả năng thấm ướt bề mặt đã được cải thiện. Quan trọng hơn, khả năng thấm ướt được cải thiện có thể giúp tạo ra điều kiện bề mặt tốt hơn cho các quy trình sản xuất tiếp theo, bao gồm:Lớp phủSự lắng đọng màng mỏngLiên kếtIn ấnỨng dụng chất kết dínhCán màngĐối với các nhà sản xuất sử dụng vật liệu có độ chính xác cao, việc cải thiện độ sạch và khả năng thấm ướt bề mặt trước các quy trình này có thể góp phần vào quá trình gia công nhất quán hơn và hiệu suất bám dính tốt hơn.Ứng dụng đa dạng: Đưa công nghệ VUV 172nm vào sản xuất tiên tiếnSự kết hợp giữa làm sạch khô và kích hoạt bề mặt giúp công nghệ laser excimer 172nm phù hợp với nhiều ứng dụng sản xuất chính xác.Sản xuất chất bán dẫnĐối với các tấm bán dẫn, linh kiện MEMS và thiết bị vi điện tử, phương pháp làm sạch bằng ánh sáng 172nm có thể được sử dụng như một bước tiền xử lý trước các quy trình quan trọng như ghép nối và lắng đọng màng mỏng. Loại bỏ cặn hữu cơ khỏi chất nền silicon và các bề mặt chính xác khác có thể giúp tạo ra giao diện sạch hơn cho các quá trình xử lý tiếp theo. Sản xuất màn hình và quang điện tửTrong quy trình sản xuất màn hình OLED, LCD và các loại màn hình khác, độ sạch bề mặt và độ bám dính là vô cùng quan trọng. Công nghệ VUV 172nm có thể được sử dụng để làm sạch chất nền, mặt nạ bay hơi và các thành phần khác, nơi cặn hữu cơ siêu nhỏ có thể ảnh hưởng đến các quá trình phủ hoặc lắng đọng tiếp theo. Màng dẻo và vật liệu polymeCác vật liệu như PET, PI, PP, PE, PMMA, PC, PVC và PS có thể được xử lý bằng phương pháp biến đổi bề mặt VUV 172nm. Đối với sản xuất cuộn-sang-cuộn, việc kích hoạt bề mặt có thể cải thiện khả năng thấm ướt trước khi phủ, in, cán màng hoặc liên kết bằng chất kết dính, giúp tạo ra giao diện phù hợp hơn giữa các vật liệu khác nhau. Kim loại và thủy tinh chính xácPhương pháp xử lý bề mặt 172nm cũng có thể được áp dụng cho các vật liệu như titan, lá nhôm, tấm silicon và kính ITO. Bằng cách điều chỉnh thành phần hóa học bề mặt và tăng năng lượng bề mặt, phương pháp xử lý này có thể cải thiện khả năng thấm ướt mà không cần tiếp xúc cơ học trực tiếp với chất nền. Các thành phần y tế và nha khoaTitanium được sử dụng rộng rãi trong các bộ phận y tế và nha khoa nhờ các đặc tính cơ học và khả năng chống ăn mòn tuyệt vời của nó. Tuy nhiên, sự nhiễm bẩn bề mặt và khả năng thấm ướt thấp có thể ảnh hưởng đến các quá trình xử lý tiếp theo và tương tác sinh học. Vượt xa khả năng làm sạch: Công nghệ Excimer 172nm cho quá trình quang hóa và hoàn thiện bề mặt.Ứng dụng của ánh sáng excimer 172nm không chỉ giới hạn ở việc làm sạch bề mặt. Nhờ năng lượng photon cao, công nghệ excimer 172nm cũng có thể được sử dụng để làm mờ bề mặt và quang trùng hợp. Bước sóng cụ thể này có thể tương tác trực tiếp với cấu trúc phân tử polymer và khởi phát các phản ứng quang hóa nhanh chóng. Trong các ứng dụng hoàn thiện bề mặt, điều này có thể giúp tạo ra bề mặt có cấu trúc vi mô được kiểm soát và đạt được vẻ ngoài mờ đồng nhất hơn, đồng thời cải thiện độ cứng bề mặt và khả năng chống trầy xước.Các ứng dụng tiềm năng bao gồm:Lớp phủ đặc biệtLiên kết cấu trúcIn ấn đồ họa độ chính xác caoIn phun tốc độ caoIn 3DIn bao bìĐiều này làm cho công nghệ 172nm trở thành một giải pháp dựa trên ánh sáng đa năng cho cả việc chuẩn bị bề mặt và hoàn thiện bề mặt.Đèn Excimer GMY 172nm: Giải pháp VUV đáng tin cậy cho sản xuất chính xácLà một nhà sản xuất nguồn sáng chuyên nghiệp, GMY phát triển các giải pháp đèn excimer 172nm cho các ứng dụng xử lý bề mặt tiên tiến.Danh mục công nghệ của GMY bao gồm: Ứng dụng trong làm sạch bằng ánh sáng ở bước sóng 172nm, sửa đổi bề mặt, kích hoạt tính ưa nước, quang hóa và các ứng dụng sản xuất chính xác liên quan.Các giải pháp dành cho ngành công nghiệp bán dẫn của công ty được thiết kế cho các ứng dụng bao gồm chất nền wafer silicon, màn hình phẳng bán dẫn, mạch tích hợp vi điện tử, linh kiện quang học độ chính xác cao, sản xuất quang điện, y sinh học và sản xuất vi mô-nano. Thay vì chỉ cung cấp một nguồn sáng độc lập, GMY có thể hỗ trợ khách hàng với nhiều mức độ tích hợp khác nhau, từ đèn Excimer 172nm và các mô-đun đèn đến các giải pháp ứng dụng tùy chỉnh. Điều gì làm cho dung dịch excimer 172nm của GMY trở nên khác biệt?Nguồn sáng VUV ổn định: GMY phát triển các nguồn sáng excimer 172nm cho các ứng dụng công nghiệp đòi hỏi khắt khe, nơi mà đầu ra tia UV ổn định và đáng tin cậy là điều thiết yếu.Xử lý khô và không tiếp xúc: Xử lý bằng tia VUV 172nm cung cấp phương pháp không tiếp xúc để loại bỏ chất gây ô nhiễm hữu cơ và kích hoạt bề mặt, thích hợp cho các chất nền chính xác và các linh kiện nhạy cảm.Làm sạch và kích hoạt bề mặt trong cùng một quy trình: Tùy thuộc vào cấu hình quy trình, công nghệ 172nm tương tự có thể được sử dụng để loại bỏ chất gây ô nhiễm hữu cơ đồng thời cải thiện khả năng thấm ướt bề mặt và năng lượng bề mặt.Tùy chỉnh theo ứng dụng cụ thể: Các loại vật liệu nền và dây chuyền sản xuất khác nhau đòi hỏi diện tích chiếu xạ, mức công suất, khoảng cách làm việc và cấu hình cơ khí khác nhau. GMY cung cấp các giải pháp tùy chỉnh. Giải pháp OEM và ODM theo yêu cầu của khách hàng.Từ nguồn sáng đến giải pháp tích hợp: GMY hợp tác với các nhà sản xuất và nhà phát triển thiết bị để cung cấp các giải pháp từ nguồn sáng excimer 172nm cơ bản đến các mô-đun tùy chỉnh và hệ thống chuyên dụng. Khi công nghệ sản xuất tiên tiến tiếp tục hướng tới các cấu trúc nhỏ hơn, độ chính xác cao hơn và kiểm soát ô nhiễm nghiêm ngặt hơn, các phương pháp xử lý bề mặt truyền thống đang phải đối mặt với những thách thức mới. Nó kết hợp quang hóa VUV năng lượng cao với quy trình xử lý khô không tiếp xúc để đạt được:Loại bỏ chất gây ô nhiễm hữu cơKích hoạt bề mặtKhả năng ưa nước được cải thiệnNăng lượng bề mặt cao hơnĐiều kiện phủ và liên kết tốt hơnGiảm sự phụ thuộc vào việc vệ sinh bằng hóa chất ướt.Tích hợp linh hoạt vào các quy trình sản xuất chính xác Từ các tấm bán dẫn và linh kiện OLED đến quang học chính xác, màng linh hoạt, cấy ghép titan, vật liệu PCB và lớp phủ tiên tiến, công nghệ VUV 172nm đang trở thành một công cụ ngày càng có giá trị trong xử lý bề mặt hiện đại. Nếu bạn đang tìm kiếm nhà sản xuất đèn Excimer 172nm để làm sạch wafer, kích hoạt bề mặt, biến đổi ưa nước, quang trùng hợp hoặc tích hợp thiết bị VUV tùy chỉnh, GMY có thể cung cấp các giải pháp hướng đến ứng dụng dựa trên các yêu cầu quy trình cụ thể của bạn. Khám phá các giải pháp đèn Excimer 172nm của GMY và tìm hiểu cách công nghệ VUV có thể giúp cải thiện quy trình xử lý bề mặt của bạn.Khám phá các giải pháp đèn excimer GMY 172nm

Các ứng dụng công nghiệp chính của a Nguồn sáng excimer 172nm Các ứng dụng bao gồm làm sạch bề mặt, hoạt hóa bề mặt, phân hủy TOC và xử lý bằng tia UV. Các photon 7,2 eV này phá vỡ các liên kết phân tử mà không cần nhiệt, tạo ra một quy trình lạnh, không hóa chất. Bạn sẽ thấy công nghệ này rất quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn, sản xuất màn hình và xử lý nước siêu tinh khiết. Bài viết này sẽ trình bày chi tiết cơ chế và lợi thế công nghiệp của từng ứng dụng. Những điểm chính cần ghi nhớÁnh sáng excimer 172nm loại bỏ bụi bẩn hữu cơ khỏi bề mặt mà không cần hóa chất hoặc nhiệt.Nó làm cho bề mặt nhựa trở nên dính hơn bằng cách tạo ra các liên kết mới, cải thiện độ bám dính của sơn và keo.Nó phân hủy chất thải hữu cơ trong nước và làm khô lớp phủ ở nhiệt độ phòng, giúp tiết kiệm năng lượng. Các ứng dụng công nghiệp chính trong việc xử lý bề mặtLàm sạch bằng quang hóa và kích hoạt bề mặt là hai ứng dụng chính trong việc biến đổi bề mặt của công nghệ này. Cả hai quy trình đều khai thác các photon năng lượng cao để thay đổi thành phần hóa học bề mặt mà không gây ra hư hại do nhiệt. Làm sạch bằng quang hóaBạn sẽ thấy việc làm sạch bằng phương pháp quang hóa là rất cần thiết để loại bỏ các chất gây ô nhiễm hữu cơ khỏi các chất nền chính xác. Các tấm silicon, tấm kính và các linh kiện quang học thường có cặn chất cản quang, dầu mỡ và dấu vân tay làm ảnh hưởng đến hiệu suất. Đèn Excimer 172nm Quá trình này phá vỡ trực tiếp các liên kết carbon-carbon và carbon-hydro. Đồng thời, bức xạ tạo ra ozone từ oxy trong môi trường. Ozone này oxy hóa các chất cặn bị phân mảnh thành carbon dioxide và hơi nước dễ bay hơi. Quá trình này không tạo ra chất thải lỏng và không cần bước sấy khô.Các số liệu về hiệu quả rất ấn tượng. Một trường hợp được ghi nhận cho thấy tỷ lệ loại bỏ chất hữu cơ trên bề mặt tấm silicon đạt 99,9% trong vòng ba phút. Một trường hợp khách hàng khác cũng xác nhận tỷ lệ loại bỏ 99,9% tương tự đối với quá trình tiền xử lý tấm wafer. Những kết quả này giải thích tại sao sản xuất màn hình hiển thị, sản xuất tấm cảm ứng và xử lý wafer ngày càng dựa vào phương pháp khô này.Hiệu quả loại bỏ chất hữu cơ trên bề mặt tấm silicon đạt 99,9%, và thời gian xử lý chỉ 3 phút.Hãy xem xét sự so sánh với phương pháp làm sạch ướt truyền thống. Một nhà sản xuất chất bán dẫn hàng đầu thế giới đã thay thế phương pháp làm sạch bằng dung môi hóa học bằng công nghệ excimer. Phương pháp cũ để lại cặn hóa chất và gây ra những lo ngại về môi trường. Sau khi áp dụng, công ty đã đạt được hiệu quả làm sạch không để lại cặn, cải thiện hiệu suất lên 30% và giảm chi phí xử lý chất thải lỏng. Các photon cực tím sâu ở mức 7,2 eV phá vỡ hầu hết các liên kết hóa học một cách nhanh chóng. Không giống như hóa học ướt, không có sự ô nhiễm thứ cấp nào xảy ra từ chính các chất tẩy rửa. Kích hoạt bề mặt để tăng độ bám dínhKích hoạt bề mặt biến đổi các bề mặt polymer trơ thành các giao diện phản ứng hóa học. Bức xạ 172nm tạo ra các nhóm hydroxyl và carbonyl trên chuỗi polymer. Các nhóm chức này làm tăng đáng kể năng lượng bề mặt và khả năng thấm ướt. Bạn cần xử lý bề mặt này trước khi phủ mực, lớp phủ hoặc chất kết dính lên các loại nhựa có năng lượng thấp.Những cải tiến về định lượng chứng minh giá trị của nó. PEEK bán tinh thể cho thấy độ bền bám dính tăng từ 3 MPa khi chưa xử lý lên khoảng 20 MPa ở 100 mJ/cm² và 25 MPa ở 1000 mJ/cm². PEEK vô định hình cũng cải thiện từ 5 MPa lên mức cao tương tự. Vật liệuĐộ bền bám dính khi chưa xử lý (MPa)Độ bền bám dính ở mức ~100 mJ/cm² (MPa)Độ bền bám dính ở mức ~1000 mJ/cm² (MPa)PEEK bán tinh thể3~20~25PEEK vô định hình5~20~25Đèn excimer phát ra ánh sáng 172nm làm tăng khả năng thấm ướt và năng lượng bề mặt trên thủy tinh, kim loại và polyme. Quá trình kích hoạt này là một giải pháp thay thế cho các phương pháp xử lý plasma và corona. Sản xuất mạch in (PCB) dựa vào bước này để đảm bảo độ bám dính lớp phủ chống hàn. Lắp ráp linh kiện ô tô sử dụng nó để liên kết các bộ phận bằng nhựa. Quy trình này tích hợp liền mạch vào các dây chuyền sản xuất "làm sạch bằng ánh sáng" và "làm khô bằng ánh sáng".Các ngành công nghiệp áp dụng công nghệ này bao gồm sàn PVC, màng trang trí, ván sợi, ván ép, tấm gỗ và các bộ phận nhựa ô tô. Các ứng dụng công nghiệp chính của việc biến đổi bề mặt tiếp tục mở rộng khi các nhà sản xuất khám phá ra những ứng dụng mới. Ứng dụng oxy hóa và đóng rắn tiên tiếnNgoài việc biến đổi bề mặt, nguồn laser excimer 172nm còn thúc đẩy hai quá trình quan trọng: phân hủy tổng lượng carbon hữu cơ (TOC) trong nước siêu tinh khiết và xử lý bằng tia UV ở nhiệt độ thấp. Cả hai ứng dụng đều tận dụng cùng một loại photon năng lượng cao để đạt được những kết quả mà các công nghệ thông thường không thể làm được. Sự phân hủy TOC trong nướcBạn cần nước siêu tinh khiết với hàm lượng TOC dưới mức phần tỷ để sản xuất chất bán dẫn và dược phẩm. Đèn UV truyền thống không thể phân hủy hiệu quả các hợp chất hữu cơ cứng đầu. Bước sóng 172nm cung cấp 7,2 eV trên mỗi photon, cho phép quá trình oxy hóa tiên tiến phân hủy các tạp chất hữu cơ thành carbon dioxide và nước vô hại.Khả năng oxy hóa của quy trình này vượt xa các phương pháp oxy hóa bằng tia cực tím thông thường. Bạn loại bỏ hoàn toàn các chất phụ gia hóa học, tránh được sự nhiễm bẩn thứ cấp. Mô-đun Excimer 172nm Công nghệ này tích hợp trực tiếp vào các vòng xử lý nước, cung cấp khả năng giảm TOC liên tục mà không cần hóa chất tiêu hao. Các nhà máy sản xuất chất bán dẫn dựa vào công nghệ này để duy trì các tiêu chuẩn về độ tinh khiết của nước, điều này ảnh hưởng trực tiếp đến năng suất sản phẩm. Các nhà sản xuất dược phẩm cũng sử dụng phương pháp tương tự để đáp ứng các yêu cầu quy định nghiêm ngặt đối với hệ thống nước dùng cho tiêm truyền.Quy trình hoạt động liên tục và không cần chu kỳ tái tạo. Bạn theo dõi nồng độ TOC trong thời gian thực và điều chỉnh tốc độ dòng chảy cho phù hợp. Không giống như các phương pháp oxy hóa hóa học, phương pháp này không để lại sản phẩm phụ dư thừa có thể ảnh hưởng đến các quy trình tiếp theo. Làm khô bằng tia UV ở nhiệt độ thấpBạn phải đối mặt với một thách thức cơ bản khi làm khô chất kết dính và lớp phủ trên các chất nền nhạy nhiệt. Đèn thủy ngân thông thường phát ra bức xạ hồng ngoại đáng kể, làm tăng nhiệt độ chất nền và gây ra hiện tượng cong vênh, đổi màu hoặc thay đổi kích thước. Nguồn excimer 172nm giải quyết vấn đề này một cách hiệu quả.Khác với các loại đèn UV thủy ngân áp suất trung bình thông thường, đèn excimer phát ra không có bức xạ hồng ngoại, dẫn đến không gây tác động nhiệt lên chất nền và loại bỏ nhu cầu về hệ thống làm mát phức tạp hoặc thông gió bằng ozone.Tính ổn định nhiệt của công nghệ excimer không chỉ giới hạn ở phổ phát xạ:Bề mặt của ống thạch anh của đèn excimer. không bị nóng (không giống như đèn hơi thủy ngân).Hầu hết các đèn excimer hoạt động với làm mát rất ít hoặc không cóvà là Bật/tắt tức thì Không cần chu kỳ làm nóng hay làm nguội, điều này chứng tỏ tính ổn định nhiệt.Bạn có thể làm cứng các loại nhựa quang trùng hợp chuyên dụng ở nhiệt độ môi trường trên nhựa, giấy và các vật liệu mỏng manh khác. Các quy trình cuộn tốc độ cao được hưởng lợi rất nhiều, vì bạn loại bỏ được các trạm làm mát và giảm diện tích mặt bằng cần thiết. Khả năng BẬT/TẮT tức thì cho phép định lượng năng lượng chính xác, ngăn ngừa hiện tượng làm cứng quá mức hoặc làm hỏng vật liệu nền.Các ứng dụng đòi hỏi độ chính xác cao cần mức độ kiểm soát này. Khi bạn liên kết các thành phần quang học hoặc làm khô các lớp phủ bảo vệ trên các thiết bị điện tử linh hoạt, việc quản lý nhiệt trở nên vô cùng quan trọng. Một nhà cung cấp uy tín Nhà sản xuất đèn Excimer Sẽ chỉ định chính xác mật độ năng lượng cần thiết cho hệ thống nhựa của bạn, đảm bảo độ sâu đóng rắn đồng đều mà không gây ra ứng suất nhiệt.Các ứng dụng oxy hóa và xử lý nhiệt tiên tiến này đại diện cho nhóm ứng dụng công nghiệp chính thứ hai của nguồn sáng đa năng này. Sự kết hợp giữa quá trình oxy hóa không dùng hóa chất và xử lý nhiệt ở nhiệt độ thấp mở rộng khả năng sản xuất trên nhiều lĩnh vực. Bốn ứng dụng công nghiệp chính—làm sạch bằng phương pháp quang hóa, kích hoạt bề mặt, phân hủy TOC và xử lý ở nhiệt độ thấp—làm cho vật liệu này trở nên quan trọng. Đèn Excimer 172nm Điều này rất cần thiết. Bạn có được độ chính xác, khả năng xử lý ở nhiệt độ thấp và hoạt động không sử dụng hóa chất. Các báo cáo ngành dự báo mức tăng trưởng hàng năm là 10%. Khi nhu cầu về chất lượng tăng lên, việc áp dụng công nghệ này cũng ngày càng phổ biến. Mô-đun Excimer 172nm sẽ mở rộng. Một người đáng tin cậy Nhà sản xuất đèn Excimer Tạo điều kiện cho sự đổi mới thế hệ tiếp theo. Câu hỏi thường gặpLiệu phương pháp chiếu xạ excimer 172nm có gây hư hại cho các chất nền nhạy nhiệt không?Không. Đèn Excimer 172nm không phát ra bức xạ hồng ngoại, do đó vật liệu nền vẫn ở nhiệt độ môi trường. Bạn có thể xử lý nhựa, giấy và các thiết bị điện tử mềm mà không bị cong vênh, đổi màu hoặc thay đổi kích thước.Phương pháp kích hoạt bề mặt 172nm so với xử lý bằng plasma thì như thế nào?Cả hai phương pháp đều làm tăng năng lượng bề mặt, nhưng phương pháp sử dụng laser excimer mang lại những ưu điểm vượt trội. Bạn có được sự xử lý đồng đều mà không cần buồng chân không, không bị nhiễm bẩn điện cực và khả năng bật/tắt tức thì. Quy trình này dễ dàng tích hợp vào dây chuyền sản xuất hơn so với hệ thống plasma.Liệu có thể nâng cấp các dây chuyền sản xuất hiện có bằng công nghệ laser excimer không?Đúng vậy. Mô-đun Excimer 172nm có thể lắp đặt trực tiếp vào các hệ thống băng tải hoặc vòng xử lý nước hiện có. Bạn chỉ cần diện tích sàn tối thiểu, không cần cơ sở hạ tầng làm mát và không cần kho chứa hóa chất. Hầu hết các nhà sản xuất hoàn tất việc tích hợp trong vòng vài ngày, chứ không phải vài tuần.